半導体用語集
レーザゲッタリング
英語表記：laser gettering
ウェハの裏面に高出力のレーザを照射して、ゲッタリングサイトを形成する手法を指す。光源にはNd：YAGレーザやエキシマレーザなどが用いられている。レーザが照射された表面は瞬時に溶融し、マイクロクラック、積層欠陥、および転位を伴って固化する。レーザ照射後の熱処理により、照射領域にはスリップや転位が発生する。金属不純物はこの転位に析出する（緩和型ゲッタリング）。BSD法により形成される結晶欠陥よりも熱的安定性はよく、したがってゲッタリングの効果はBSD法よりも持続する。またサンドブラスト法を用いるBSD法にくらべて発塵は少ない。
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