半導体用語集
化学増幅型レジスト
英語表記：chemically amplified resist
レジスト中の感光剤として酸発生剤を含み、露光で発生した酸により、続く熱処理（PEB）において触媒反応が誘起され、現像液に対して不溶化（ネガ型）又は可溶化（ポジ型）が促進されるレジスト。Deep UV、エキシマ、X線、電子線露光などに対応し、各光源の輝度が不足するのをレジストの高感度化で対応しようとしたものである。
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