半導体用語集
可変成形ビーム
英語表記：variable shaped beam
電子銃から放出された電子ビームを2枚のアパーチャの重なりで成形し、このアパーチャ像を各種レンズと偏向器の組み合わせからなる電子光学系により試料面上に縮小投影して形成されたビームを成形ビームと呼ぶ。
2枚のアパーチャ間に偏向器を入れ、第一のアパーチャ像が第二のアパーチャと重なる度合を変え、寸法の異なる矩形ビームがダイナミックに発生できるようにしたものを可変成形ビームと呼ぶ。可変成形ビームは、ガウンシアンビームに比較して露光面積が1～2桁増大するため、パターン形成のための照射回数を大幅に減らすことができる。また同一の電流密度の電子光学系では電子ビーム像の面積に比例した大きな電流をえることができる。したがって、試料面へのビーム照射時間の短縮とビーム偏光に伴う整定時間の大幅な短縮が可能となり、装置のスループットが向上する。成形ビームの形状は矩形だけでなく、第二のアパーチャの開口形状を工夫することで三角形ビームやキャラクタービームなど、いろいろのビーム形状を発生することができる。
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