半導体用語集
常圧CVD
英語表記：atmospheric pressure Chemical Vapor Deposition
CVDにおいて、反応容器内圧力がほぼ1気圧であるCVDを「常圧CVD」という。今日のウェハプロセスで常圧CVDが利用されているのは、多結晶Si薄膜、SiOx系の酸化物のCVDに利用されている。
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