半導体用語集
拡散炉
英語表記：Diffusion Furnace
抵抗体に電気を流して加熱する抵抗加熱炉で、熱拡散に用いるものを拡散炉と呼ぶ。拡散炉は、半導体表面近傍に不純物高濃度に層を堆積するプレデポジション（Pre-Deposition）用と堆積物から不純物を深部へ熱処理によって拡散するドライブイン（Drive-in）用の炉がある。目的とする拡散層の深さや濃度分布によりプレデポジションとドライブインを別々の炉で処理する場合と、同一炉で連続処理する場合がある。微細化が進むと精度の高い濃度分布や極浅の濃度分布が必須となりイオン注入装置やRTA装置の応用へと移行している。
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