半導体用語集
相対速度
英語表記：relative velocity
ある物体と比較対象となる物体との間に存在する速度である。ウェーハ研磨では主にウェーハと研磨パッド間の速度を示す。ウェーハ面内の相対速度の均一化は、軌跡密度と共に研磨速度を保証するために必要な運動力学的条件である。原理的にはベクトル解析によって保証されるが研磨パッドの回転数Wрとウェーハの回転数Wｎを同一することによって、ウェーハ面内の相対速度を均一にすることができる。均一相対速度を得る機構としては、単純回転運動以外でも偏心小円運動、直線運動などがあるが、いずれにしても平面精度を確保するためには均一な軌跡を描かせるなかで、相対速度を均一にしなければならない。
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