半導体用語集
純水リンス
英語表記：pure water rinsmg
通常ウェハを種々の洗浄溶液中で処理した後、それらの洗浄溶液をシリコン表面から除去するために純水リンスを行う。粘性の高い洗浄液の除去を行う場合には、一般に粘性係数は温度が高いほど低くなるので温純水を用いる場合がある。純水リンス工程においてはどのような方式にしても純水を供給し続けるので、純水中のパーティクルの管理には注意しなければならない。
オーバフローリンスと呼ばれる槽下部から純水を供給してそのまま槽上部から排水するリンス方式の場合、比較的パーティクルの付着の問題はないものの、ウェハが槽の中に置かれている場合の純水の流れを考えて槽を設計しなければ、ウェハ面内、あるいはバッチ内で洗浄溶液の除去性能に偏りが生じてしまう。槽の上部のスプレーノズルから純水を供給し、槽が純水で満たされたら槽下部のバルプを開き、一度に排水してまたそのバルブを閉じるという過程を何度か繰り返すQuick Drain Rinsing (QDR)方式の場合には、洗浄溶液の除去能率は非常に高いものの、ノズルがパーティクル源やバクテリアの繁殖源となり問題となる場合がある。洗浄溶液の除去を促進し、パーティクルが付着しても直ちに除去されるように、メガソニックを印加しながら純水リンスを行う方法も用いられている。
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