半導体用語集

自然酸化膜

英語表記:native oxide

ウェーハを酸化性薬液(例えばAPM液)や純水中で浸漬処理中にウェーハ表面にできる1nm程度の薄い二酸化ケイ素膜。湿分のある大気中に長時間放置していても形成される。



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RISE-300

株式会社アルバック

バッチ式自然酸化膜除去装置RISETM-300は、LSIのDeep-contact底部など困難な自然酸化膜除去に対応するバッチ式プリクリーン装置です。対象ウェーハ200mm、300mmをラインアップしています。

半導体製造装置・試験/検査装置・関連部品 › エッチング装置 › アッシング装置


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