半導体用語集
露光領域
英語表記：Image field
露光装置が一度に露光できる領域。一括型露光装置が使用され始めた初期では15x15mm程度であったが、チップサイズの増大とともに22x22mm程度まで拡大された。また、これ以上の露光領域は一括型では投影レンズが非常に大きくなるためスキャン型露光装置が使用されるようになった。露光領域は26X33mm程度まで可能である。スキャン型ではスキャン方向には露光領域の拡大は容易となるが、6inchレチクルでは現在の33mmが限界となる。これ以上の露光領域拡大には230mmレチクルの採用が必要となる。一方、露光領域を解像性能よりも重要視し、レンズ開口数を小さくして解像性を落として、露光領域を50 x 50 mm程度まで拡大した大画角一括型露光装置も使用されている。
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