半導体用語集
オゾン水
英語表記：ozone water
<p>強力な酸化力を持つオゾンをユースポイントにおいて、純水にppmオーダで溶解し作製したオゾン水は、有機物や金属不純物を除去するのに有用であることが示されている。その酸化還元電位は、 同じく強力な酸化能力を持つ洗浄溶液である硫酸過酸化水素水混合溶液のそれよりも高く、酸化能力が非常に高いことを示している。 これにより有機汚染物はC02やH20に分解除去され、また金属不純物もある程度酸化除去される。</p><p>同時にシリコン表面にも清浄な保護膜としての化学酸化膜が形成され、表面を再汚染から防ぐ。この方法はその洗浄能力もさることながら、これまで多量の薬液を消費してきた硫酸過酸化水素水混合溶液やSC2とは異なり、室温において薬液を消費せず、またオゾンは比較的速く分解するので廃液処理の必要もなく、コストダウン、環境間題にも対処している点が注目される。</p><p>オゾンの発生方法として、酸素放電、水の電気分解、液体酸素の加熱などが考えられるが、オゾンの発生効率、濃度の制御などの観点から実際に用いられているのは、水の電気分解による方法である。3H2O → 03+6H++6eー(1. 51V vs NHE (標準水素電極) )のような反応を陽極で起こした時に生成する03を収集して、これを純水に溶解させてオゾン水を作製する。前述のようにこの洗浄溶液は非常に酸化力が強いので、これを供給する際に用いる配管材を注意深く選定する必要がある。すなわち、このオゾン水を通水して容易に疲労し、パーティクル、有機物、金属汚染物の源となってはならない。</p>
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