半導体用語集
化学洗浄
英語表記：chemical cleaning
半導体製造プロセスにおいて、アルカリ、酸などの薬品を用いた化学反応を伴う基板の洗浄方法をいう。デバイス作製工程において、基板表面からパーティクル、金属不純物、有機物などの汚染物質を除去することは必須であり、除去すべき汚染物質の種類によって、薬品を適宜選択してより効果的な洗浄を行うことが重要である。一般に用いられるものとしてはSPM（硫酸、過酸化水素水と超純水の溶液）、APM（アンモニア水、過酸化水素水と超純水の溶液）、DHF（フッ酸と超純水の溶液）、HPM（塩酸、過酸化水素水と超純水の溶液）などがあげられるが、その他、溶存オゾン水、電解イオン水や様々な酸・アルカリを使用した洗浄方法が開発されている。
関連製品
「化学洗浄」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
