半導体用語集
フッ酸
英語表記：fluoric acid
フッ酸はフッ化水素（HF）の水溶液で、フッ化水素酸とも呼ばれる。通常は50％程度の溶液で供給され、弱酸であるが毒性、腐食性が強い。ガラス及び多くの金属に対する特異的な溶解性が工業的に利用されており、半導体製造プロセスにおいては、ウェーハのエッチング用と共に化学洗浄用として重要な薬品となっている。フッ酸を各種の物理的洗浄法と併用することにより、ウェーハ表面に付着した汚染物は勿論のこと、強固に固着した汚染物に対しても膜表面をわずかに溶解して分離、除去することもできる。酸化膜CMPでは残存するシリカスラリーやカリウム等の金属イオンを除去するため希フッ酸処理がスクラブ洗浄と併用され、メタルCMPにおいても腐食について留意すれば良好な洗浄結果を得ることができる。またウェーハ洗浄においてフッ化水素ベーパーによるドライ洗浄を適用する場合がある。
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