半導体用語集
コロイダルシリカ
英語表記：colloidal silica
シリカ（二酸化珪素）の微細粒子が水などの溶媒に分散された状態のもの。シリカは非晶質であり、その粒子径は通常10～300mm程度で、コロイド状に分散した状態であるため、コロイダルシリカと呼ばれ、別名シリカゾルとも称する。ポリシング用途に使用されるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムのイオン交換により得られるイオン交換法コロイダルシリカと、TEOS等の有機珪素化合物の加水分解により得られる高純度コロイダルシリカに大別される。前者は天然の珪砂を原料としているため、安価であるが不純物を多く含んでいる。後者は、蒸留精製可能な有機珪素化合物を原料としているため、価格は高いが極めて高純度である。いずれもポリシング材として使用する場合は加工促進剤等の添加剤を調合する。ともに半導体シリコンやガラス・各種酸化物のポリシングに使用されている。特に高純度性を要求される半導体シリコンのファイナルポリシングには高純度コロイダルシリカが使用されている。
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