半導体用語集
レジストヒーティング
英語表記：resist heating
電子ビームがレジストと衝突して失う運動エネルギーが熱に変換されてレジストを加熱することをレジストヒーティングと呼ぶ。
レジストヒーティングによって、マスク内でパターンの疎密に応じたレジスト温度分布が発生すると、パターンの寸法にばらつきが生じ、描画精度が低下することになる。レジストヒーテイングによる温度上昇は、電子ビームの加速電圧の0.3乗に比例するといわれる。そのため、加速電圧は低いほど有利になるが、近年、解像力を上げるために電子ビーム描画装置の高加速電圧化が進んでおり、レジストヒーティングが発生しやすい状況になってきている。レジストヒーティングを低減するためには、1回の描画で所望の照射量を描画するのではなく、2重描画や4重描画など多数回に分けて描画する多重描画を行うことや、電流密度を小さくすることなどが上げられる。しかしながらいずれの手法も描画時間は長くなるため、生産性が落ちる欠点がある。
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