半導体用語集
外方拡散
英語表記：out-diffusion
あらかじめ基板にドープされていた不純物が、加熱処理によって基板外部へ向かって拡散していくこと。これに対して、基板表面に拡散源があり不純物が基板内部へと侵入していく場合は、内方拡散(in-diffusion)と呼ばれる。外方拡散によって、既存の不純物分布が広がり、また場合によっては、シリコン・酸化膜界面への不純物のパイルアップや表面からの蒸発(昇華)を伴い、バルク中の不純物の一部が消失することもあるので注意を要する。
関連製品
「外方拡散」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「外方拡散」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
