半導体用語集
気相拡散
英語表記：gas-phase diffusion
不純物拡散において、不純物原子を含んだガス中で拡散を行う方法のこと。拡散源としては、ホスフィン(PH₃)、アルシン(AsH₃)、ジボラン (B₂H₆)などが用いられる。通常、適切なキャリアガスによって希釈して高温の炉心管へ供給する。不純物原子を含んだガスが高温で分解し、基板表面に吸着した不純物が基板中へ拡散することでドーピングが行われる。ドーピングが、不純物ガスの分圧や流量のみならず、不純物が吸着する表面状態に影響されやすいという欠点がある。
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