半導体用語集
面湾曲
英語表記：curvature
像面湾曲、サイデル五収差の一つ。像面（ベストフォーカス面)が像高 (光軸中心からの距離)に応じて変化し、像面が平面ではなく曲面になる現象。一般には軸外ではレンズ側に像面がある。最近の投影露光装置では湾曲成分は比較的よく補正されているため、湾曲成分だけでなく像面ばらつき (総合焦点差)として露光領域内でのベストフォーカス位置のレンジとして扱われる場合もある。この場合は非点収差成分も含めて定義される。最近の露光装置では,高い解像度をえるため短波長化、高NA化がなされているため、DOF (Depth Of Focus)が狭くなっている。よって、像面湾曲も含めて像面ばらつきを小さくすることが重要である。
関連製品
「面湾曲」に関連する製品が存在しません。キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
「面湾曲」に関連する特集が存在しません。
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。
