半導体用語集
ラジカル
英語表記：Radical
エッチング用プラズマは、低圧力中の反応ガスにRF電界を印加し、放電させることにより、生成される。プラズマ中に、イオン、電子、解離原子や分子、励起原子等の活性種を含んでいる。その中でエネルギーの大きい電子がガス分子に衝突し複数の解離原子や解離分子に引き離される。中性の分子や原子の場合も、原子核の周りを廻る電子が基底状態でなく励起状態になって非常に高いエネルギーを得ている場合、（例えば1万℃の高温になっている）、元の基底状態に戻ろうとして活性になるために化学反応が活発となる。
＊例えば、CF4ガスプラズマでは、いろいろな分解生成物が存在している。特にフッ素ラジカルは化学的に極めて活性であり、プラズマ中の被エッチング材（Si,SiO2,Si3N4）と反応してエッチングが進行する。
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