半導体用語集

再現性

英語表記:repeatability

エッチングプロセスにとって再現性は永透の課題である。特に量産工場におけるプラズマエッチングプロセスにとって再現性をいかにして確保するかが最大の問題になっている。再現性を阻む最大の原因は真空チャンバ内の壁に付着する反応生成物である。壁表面状態の変化によりプラズマ中活性種の壁への損失過程が変化するためプラズマ状態が変化する。そのため、いかにして壁の状態を一定に保つかが重要となる。通常はクリーニングを入れることで壁の状態を確保する。このクリーニングによる装置停止はスループットを決定する重要な因子であるので、クリーニングサイクルをできるだけ長くする努力が行われている。クリーニングサイクルを長くする方法として壁を加熱することで反応生成物の吸着を減らす、in-situクリーニングをプロセスの合間に行うなどいろいろな工夫がなされている。壁の状態に加えて、プラズマ放電時に印加される高周波電界の実効パワー、圧力変動、流量変動、基板温度変動など再現性を低下させる要因は多く、それらのモニタリングはきわめて重要である。



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