半導体用語集
投影レンズ
英語表記：proJection lens
縮小転写イオンビームリソグラフィの光学系において、マスクを透過したイオンビームをウェハ上に縮小投影するための電界レンズである。マスクを透過したイオンビームは、イマージョンレンズにより加速されながら、このレンズの後焦点面にクロスオーバを作る。この位置は、投影レンズの前焦点面に設定されているため、イオンビームは、投影レンズによりウェハ上に垂直なビームとなって縮小像を投射し、縮小率は、前焦点距離/後焦点距離で与えられる。投影レンズには,ユニポテンシャルの電界レンズを使う例もあるが、最近の光学設計では、クロスオーバでの空間電荷を緩和させるために、クロスオーバでのイオンのエネルギーを300keV程度に設定し、バイポテンシャルレンズにより、ウェハ上に80keV程度のエネルギーに減速し投影する構成が提案されている。
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