半導体用語集
温度
英語表記：temperature
描画精度を悪化させる要因の一つで、特に時間に対して変動する温度 (温度変動・temperature fluctuation) が問題である。
温度変化は装置構成材科の伸縮を引き起こしたり、空気の密度変化を生しさせたりして、各種の物質の物性値を変化させる。たとえは鉄系の材料で作られた長さ100mmの部品は0.1℃の温度変化で0.1～0.2μmの伸縮が起こる。 レーザ干渉計で使われるHeNe光の屈折率は空気の局部的な温度差により変化し、測定精度が低下する。このように描画精度の低下に絜がる温度変動を引き起こす発熱源としては、装置内部に組み込まれた電磁コイルやステージなどで使われるモータなどがあげられる。 さらにXYステージで使われるリニアガイドで発生する摩擦熱やコラム内で電子ビームの成形や遮断に使うアパーチャでの発熱(電子ビームが止められて運動エネルギーが熱エネルギーに変ることで発生)も無視できない。このような発熱源による装置の温度変動を防ぐために、電子ビーム描画装置では、発熱部周辺に土0.1℃以下の定温循環水を流しなどして積極的に装置の恒温化対策を行っている。さらに装置全体は土0.1℃以下に制御された層流エアーの流れる恒温・恒室室(磁気シールド室を兼ねることが多い)内に設置し、外部の温度変動の影響を受けることを極力避けるようにしている。
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