半導体用語集
現像液
英語表記：developer
i線、DUV、VUV用ポジ型レジストに用いられる。主成分はTAMH（テトラメチルアンモニウム ハイドロオキサイド）。純水で希釈されたアルカリ水溶液で、2.38％濃度のものが一般的。環化ゴム系のネガ型レジストには、キシレン等の有機溶剤が用いられていたが、化学増幅タイプのネガ型レジストには主にTMAHが用いられる。レジスト解像度の向上の目的で界面活性剤が添加される場合もある。
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