半導体用語集
直接描画
英語表記：direct writing
光ステッパやX線露光のようにマスク像を転写するのに対して、露光装置自体がパターン発生機能を有し、マ スクを用いずに直接露光を行うことを直接描画という。電子ビーム露光においては、レチクル描画に対して、ウェハ上にデバイスパターンを直接露光することを直接描画という場合もある。電子ビーム直接描画では、高い解像性と深い焦点深度を有し、露光フィールドの制限もない。しかしながら、マスクレスでパターン露光を行うため、パターンデータの変換技術が重要となる。
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