半導体用語集

精度

英語表記:accuracy

仕上りパターンの設計値に対する精密さの度合を精度と呼ぶ。電子ビームリソグラフィにおいては、パターンの寸法に関わる精度とパターンの位置に関わる精度とがあり、これらを併せて描画精度という。パターン寸法精度とは、現像後パターンの設計パターンに対する寸法忠実性の度合を意味し、設計寸法と実寸法との差を寸法誤差と呼ぶ。パターン位置精度とは、設計パターン位置にどれだけ忠実にパターンが配置されているかを意味し、設計位置と実際のパターン位置との差を位置誤差と呼ぶ。パターン位置誤差には、ビームとビームとのつなぎの善し悪しを意味する接続精度、パターン位置の絶対配置精度を意味する長寸法精度、下地パターンとのずれの善し悪しを意味する合わせ精度などがある。これらの精度は、描画対象となるパターンの寸法によってその許容値が変化する。またそこで発生する誤差は、装置の性能、使用環境などの様々な要因(誤差要因と呼ぶ)によって変動する。



関連製品

高精度慣性位置ナビゲーションの市場規模、シェア、成長、メーカー 2033年

KD Market Insights Private Limited

高精度慣性位置ナビゲーション市場は、予測期間2024-2033年に大きなCAGRで成長すると予想される。

技術/特許/M&A › 技術 › 半導体(素子・構造・回路など)


高精度力センサの市場規模、シェア、成長、メーカー 2033年

KD Market Insights Private Limited

高精度力センサ市場は、予測期間2024-2033年に大きなCAGRで成長する見込みです。

技術/特許/M&A › 技術 › 半導体(素子・構造・回路など)


PlasmaPro100ALE(Oxford Instruments社製)

株式会社アルバック

原子スケールの高精度エッチングが可能な装置

半導体製造装置・試験/検査装置・関連部品 › エッチング装置 › その他


FCS-T1000Lシリーズ

株式会社フジキン

高精度モデル

ディスプレイ製造装置・試験/検査装置・関連部品 › 露光・描画装置 › コンタクトアライナ


会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。