半導体用語集
RTP
英語表記：Rapid Thermal Process
特殊な熱源よる加熱装置を用いて、Siウェハを高速で昇温・降温させる短時間熱処理プロセスの総称をRTPという。
＊熱処理（熱源）と熱処理方法
①タングステンハロゲンランプで、ウエハ全体を加熱する。
②カーボン等のヒーターの前に高融点金属のシャッターを設け、それを開閉して瞬時に加熱する。
③シリコニットヒーター等の炉内にウェハを高速で昇降し加熱する。
＊具体的な応用例
①イオン注入後の結晶性回復と注入不純物の活性化のためのアニール（RTA）
②瞬時熱酸化（極薄SiO2膜の成膜）（RTO）
③高融点金属シリサイドの形成（RTA）
④熱酸化膜（SiO2）の熱窒化（RTN）
⑤メタルシンター
*RTA（Rapid Thermal Anneal):高温短時間アニール
*RTN (Rapid Thermal Nitridation):高温短時間窒化
*RTo（Rapid Thermal Oxidation):高温短時間酸化
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