半導体用語集
欠陥
英語表記：defect
LSIの機能の阻害要因となる構造上の微小な欠陥のことで、歩留り、性能、信頼性に大きな影響を及ぼすことから、LSI製造上の重要な管理項目となっている。欠陥は、工程中の様々な要因により、配線の断線やショート、構造の変形、物理的欠損など、様々な形状のものが存在するが、工程中の微小異物（パーティクル）に起因するパターン欠陥がその大部分を占める。
欠陥がLSIの機能に対し致命的になるかどうかは、そのLSIの加工寸法との大きさの大小による。このため、LSIの微細化が進むにつれ、問題となる欠陥の大きさは小さくなり、高集積化により、単位面積あたりの欠陥数である欠陥密度（個/cm²）は大きくなる。
このため、歩留り管理には、パターン欠陥のインラインモニタリングが、非常に有効である。LSI製造の主要な工程、たとえば熱酸化、CVDなどの成膜工程、CMP工程、エッチング、リソグラフィなどのパターン形成工程の前後で、パターン欠陥検査を行うことにより、その工程で発生する欠陥が明確になるため、プロセスや製造設備の改善を行い、パターン欠陥を低減し歩留り改善に寄与することができる。
現在パターン欠陥の検査装置には、光散乱方式、パターン比較方式、空間フィルタリング方式などの種類があり、その特性、目的に応じ使い分けが行われている。
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