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［OBIRCH］光ビーム加熱抵抗変動法

財団法人材料科学技術振興財団
最終更新日: 2025年01月08日
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OBIRCH：Optical Beam Induced Resistance Change

OBIRCHは、光を当てることによって発生する欠陥箇所の熱により、抵抗が変化することを利用して、異常箇所の特定を行う手法です。

・配線やビア内のボイド・析出物の位置を特定可能。
・コンタクトの抵抗異常を特定可能。
・配線ショート箇所を特定可能。
・DC電流経路を可視化。
・ゲート酸化膜微小リークを捉えることが可能。

この資料では、適用例や原理、データ例などを紹介しています。

基本情報

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納期 1週間以内
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取扱企業

財団法人材料科学技術振興財団

業種：試験・分析・測定  所在地：東京都 世田谷区喜多見 1-18-6

製品開発・品質管理を強力サポートする、受託分析サービス。 公正中立な第三者機関として、最先端の科学技術の発展に貢献します。

エレクトロニクス分野・マテリアル分野・ライフサイエンス分野などの製品・材料・素材の分析を、100種以上の分析手法を取り揃えて承っております。
お客様の「なぜ？」「困った…」「どうなってる？」に分析データ・解析結果でお応えします。

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