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半導体用語集

CAD

英語表記：Computer Aided Design

電子ビームリソグラフィの分野においては、パターンレイアウトCAD と、設計規則検査 (DRC: Design Rule Check) CADを指してCADと呼ぶことが多い。大規模LSIの設計を行う際に、設計や確認の時間を短縮し、人為的ミスを除去するには、コンピュータの利用は不可欠である。リソグラフィの分野においても同様であり, CADを利用することで作業能率と正確性の向上を図っている。パターンレイアウト CADは、設計者による回路パターン作成をサポートするCADである。EWS (Engineering Work Station) 上で動作するソフトウェアであり、ウインドウとマウスを使用したGUI (Graphical User Interface) による対話型入力を特徴とする。回路パターンの設計規則には、各層ごとに最小パターン寸法や最小スペース寸法、層間のパターン位置関係などが細かく規定されている。これに違反すると所望のデバイスを形成することができない。しかし、大規模なLSIパターンを人間がミスなく入力し、これを人間が検査することは実質的に不可能である。DRCは、レイアウトデータが設計規則に違反していないか検査するソフトウェアである。設計者は、DRCが出力したエラー情報を基に修正を行う。他に、EB露光や現像プロセスをシミュレーションするCADも活用されている。様々な条件をシミュレーションすることで、現実に描画することなく最適な露光条件を求めることができ、有用である。

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