半導体用語集
プラグ
英語表記：plug
ホール形状にメタルを埋め込むことによって形成した配線。特に、W CVD法を用いたWプラグが有名。このプラグ形成技術は、高アスペクト比を持つコンタクト（もしくはビア）ホールに対するメタル埋め込み技術として適用されている。従来のAlなどのスパッタ技術では、ステップカバレッジの点から、ホール側壁のAl膜が、コンフォーマル（均等形状）に堆積できないため、マイグレーション耐性の劣化が問題とされてきた。そのため、これに代わりメタルCVDを用いたプラグ形成が行われた。例えば、Wプラグの場合、W CVDでホールを埋め込んだ後、WエッチバックやCMPによりホール部以外のWを除去することによってプラグ形成を行う。実際、ホール形状が、0.5μm以下、アスペクト比が2以上では、Wプラグが用いられていることが多い。このほかにも、低抵抗化の要求から、Al CVDもしくは高圧リフローを用いたAlプラグやCuプラグについても検討されている。
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