半導体用語集
プラズマCVD装置
英語表記：plasma enhanced CVD system
減圧下において材料ガスを流し、ウェハ近傍に高周波によるプラズマを発生させ、ガスの放電による分解で薄膜を成膜させるCVD装置。目的によりプラズマ種、材料ガスの選択が必要となる。高密度プラズマを用いるとステップカバレッジと成膜速度が増加する。低密度なプラズマ使用では、ボトムカバレッジを向上させられる。また、比較的低温で成膜させることが可能で、ゲートやキャパシタ形成後の配線工程などに使用される。
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