半導体用語集
リソグラフィー
英語表記：lithography
LSIの素子や配線を形成するためのパターンを、写真と似た方法によって用いて基板（Siウェーハなど）上に焼き付ける技術。写真ではフィルム上の像を感光剤を塗布した印画紙上に拡大して焼き付けるが、リソグラフィ技術では、マスク上のパターンをフォトレジストを塗布したウェーハ上に縮小して焼き付ける。LSIの製造ではこの焼き付けられたレジストパターンに従って、その下の層をエッチングしたりする工程や薄膜形成等の工程を繰り返す。解像できる最小のパターンはほぼ波長に等しいので、LSIの高集積化に伴って、ｇ線（436nm）、i線（365nm）、KrFレーザ（248nm）、ArFレーザ(193nm）と波長の短い光源が用いられる。将来はさらに波長の短いＸ線や電子線を用いることも検討されている。さらに、波長よりも小さな寸法のパターンを解像させるために、位相シフト法と呼ばれる露光技術や高解像性のフォトレジストが開発され、露光装置もステッパからスキャナと呼ばれる方式へと開発が進んでいる。
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