半導体用語集
洗浄装置
英語表記：cleaning equipment
表面にある粒子、有機物、金属表面不純物などの汚れを液体または気体の洗浄剤の化学作用に各種物理エネルギーを合せ用いて除去する装置。処理枚数により、バッチ式と枚葉式に大きく分類される。
関連製品
SiC・GaN向けウェーハ枚葉式自動洗浄装置
PHT株式会社
・次世代材料に応える、高クリーン・低ダメージ洗浄 ・SiC・GaN洗浄のために磨き上げた、枚葉式クリーナ ・高クリーン度とプロセス安定性を両立する枚葉洗浄技術
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › 洗浄装置・ウェット処理装置 › 枚葉式洗浄装置
SiC・GaN向けウェーハ枚葉式自動洗浄装置
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SiCウェーハ向け枚葉式自動洗浄装置
PHT株式会社
本装置は、φ150mm（6") ・φ200mm（8"）対応の SiCウェーハ枚葉式洗浄装置です。 ウェーハは、25枚入カセットでLD側に作業者がセットします。 洗浄後のウェーハは、ULD側にセットされたクリーンなカセットに収納されます。
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キャリア基板受入れ洗浄装置 PWG-2501
PHT株式会社
次世代半導体向けの最先端チップレットパッケージ技術が開発されており、ガラス基板はパッケージ用キャリア基板としての適用が想定されています。そのガラスキャリア基板の搬送および洗浄装置の提案が可能です。
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