半導体用語集
ステッパ
英語表記：stepper
ステップアンドリピート方式の投影露光装置の総称。ステップアンドリピータ、リピータともいう。 この方式では、ウェハを逐次移動 (ステップ) しながら同しパターンを繰り返し露光 (リピート) していく。マスクのパターンを1 : 1の大きさで転写する等倍型やレンズ倍率を縮小して転写する縮小型がある。装置は光源、レンズを含む光学系、レチクル搬送系、ウェハ搬送系、アライメントシステムなどからなり、また空調機を備えレンズを温度変化から保護する機構を持つ。すべてのパターンを一括して転写する方式の一括転写方式にくらべて、レンズを小さくでき、ウェハ1枚当たりから取れる半導体チップの数を増やすことができる。レンズの中央を使用するため、レンズ収差を軽減でき、解像性の優れたレジストパターンを形成できる。チップ面積の増大に伴い、ステッパでは転写面積の能力不足が起こってくる。1ショット当たりの転写面積を増やすためにステップアンドスキャン方式のスキャナが使用されるようになってきている。
関連製品
ステッパ「600シリーズ」
Shanghai Micro Electronics Equipment(SMEE)
i線～ArFまで対応する1：4スキャナ
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › リソグラフィ装置 › ArF装置（ドライ）
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