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ステッパ「600シリーズ」

i線~ArFまで対応する1:4スキャナ

i線、KrF、ArF(ドライ)までの光源に対応する4:1スキャナ。自己調整型レベリング機能と高精度6DOFウェーハ/レチクルステージを実装している。90nm/110nm/280nmノードのノンクリティカルレイヤのパターンニングに使用されている。

基本情報

◎SSA600/20
解像度  90nm
光源  ArFエキシマレーザ
縮小度  1:4
ウェーハサイズ 200mm/300mm

◎SSC600/10
解像度  110nm
光源  KrFエキシマレーザ
縮小度  1:4
ウェーハサイズ 200mm/300mm

◎SSB600/10
解像度  280nm
光源  i線
縮小度  1:4
ウェーハサイズ 200mm/300mm

お問い合わせ

取扱企業

Shanghai Micro Electronics Equipment(SMEE) 

業種:産業用機械 No.1525 Zhangdong Road Zhangjiang Hi-Tech Park Shanghai China 

中国の最先端リソグラフィメーカー

ASMLの露光装置を代替できる装置の開発を目標に国の支援を受けて開発を進めている。2016年にはi線ステッパを製品化、2018年m90nmレベルのスキャナ開発プロジェクトに参加。ArF液浸システムを開発している。SMICなどで量産評価が進んでいる。また開発レベルでは、7nmクラスのパターンニングにも成功している。

ASMLの代替需要を目指す。

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