半導体用語集
プラズマエッチング装置
英語表記：plasma etching system
反応性ガスプラズマを利用したドライエッチング装置で、ウェーハの電位がたかだか浮遊電位としかならないエッチング装置。主として中性活性種の作用でエッチングが進行する。
関連製品
ULHITETM NE-7800H
株式会社アルバック
FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAMなどに用いられる難エッチング材料（強誘電体、貴金属、磁性膜等）のエッチングに対応したマルチチャンバー型の低圧・高密度プラズマエッチング装置です。
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › エッチング装置 › その他
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