半導体用語集
後洗浄
英語表記：post-cleaning process
エッチングやレジストアッシング後のウェーハ上の生成物や残留物を主に除去する洗浄。また、CMP後のライトエッチングを含めたスラリー除去等も後洗浄といわれる。
関連製品
シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置
PHT株式会社
ワイヤーソー後洗浄・ラップ後洗浄・アルカリエッチング洗浄・熱処理前洗浄・熱処理後洗浄・研磨後洗浄・FINAL洗浄に対応します。
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