半導体用語集
プラズマCVD装置
英語表記：plasma enhanced CVD system
減圧下で反応性ガスのプラズマ放電分解によって薄膜を形成するCVD装置の総称。熱CVD法と異なり、比較的低温でCVD反応が成立する特徴を持つ。プラズマの発生エネルギーを、主に周波数により分類し、高周波プラズマ、マイクロ波プラズマ、ECRプラズマの各種装置がある。
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