半導体用語集
アニール
英語表記:annealing
各種加熱源を用いて試料の熱処理を行うこと。半導体製造におけるアニールは、電気炉、ランプアニールが用いられることが多く、主に以下のような目的で行われる。(1)イオン注入などによって発生する基板格子欠陥の回復と注入種の活性化、(2)不純物が含まれたシリコン酸化膜のリフロー、(3)シリサイドなどの化合物の形成。シリサイド形成のアニールでは、シリサイドの材料となる金属膜が酸化されやすいため、酸化が起こらない雰囲気(N₂雰囲気やArなどの希ガス雰囲気または真空雰囲気)で行われる。
関連製品
フラッシュランプアニールによるエピタキシャルSi:P 層の再活性化
グローバルネット株式会社
株式会社SCREEN セミコンダクターソリューションズ、植野 雄守
自治体・省庁・研究機関・団体 › 応用物理学会
Cold wall 中H2S アニールによるPVD-MoS2膜残留硫黄抑制
グローバルネット株式会社
School of Engineering, Institute of Science Tokyo、松永 尚樹
自治体・省庁・研究機関・団体 › 応用物理学会
Mg イオン打ち込みしたGaN に対する850℃アニールの表面およびバルク欠陥への影響についてのMOS 構造を用いた評価(2)
グローバルネット株式会社
北大、新藤 源大
自治体・省庁・研究機関・団体 › 応用物理学会
ホモエピタキシャル成長n 型GaN において電子線照射によりEC − 1 eV 付近に形成される窒素変位関連トラップの熱アニール挙動
グローバルネット株式会社
名大、遠藤 彗 堀田 昌宏(本研究に関する問合せ先)
自治体・省庁・研究機関・団体 › 応用物理学会
キーワード検索
フリーワードやカテゴリーを指定して検索できます
関連用語
関連特集
会員登録すると会員限定の特集コンテンツにもアクセスできます。




