半導体用語集
CVD装置
英語表記：chemical vapor deposition system
薄膜材料を構成する元素からなる１種又は数種の化合物ガス、単体ガスをウェーハ上に供給し、気相又はウェーハ表面での化学反応により所望の薄膜を形成させる装置。ガス分子を励起させるには一般的には、熱エネルギーやプラズマ放電を用いる。最近では光（レーザ、紫外線など）励起や触媒を使用したCVD装置も実用化されつつある。
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半導体CVD装置の市場規模、シェアおよび2025〜2035年の予測
KD Market Insights Private Limited
KD Market Insights は、市場調査レポート「半導体 CVD 装置市場の将来動向と機会分析 ― 2025 年から 2035 年」を発表できることを嬉しく思います。本レポートの市場範囲には、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報が含まれており、読者が十分な情報に基づいたビジネス判断を行えるようになっています。
技術／特許／M&A › 技術 › 半導体（素子・構造・回路など）
CC-200/400
株式会社アルバック
ロードロック式プラズマCVD装置CC-200/400は、小型で使いやすく、研究開発から生産までに対応した装置です。
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › 成膜装置 › CVD装置
CME-200/400
株式会社アルバック
枚葉式PE-CVD装置 CME-200E/400は、シリコン系の絶縁膜・バリア膜等の成膜に最適な、量産用PE-CVD装置です。
半導体製造装置・試験／検査装置・関連部品 › 成膜装置 › CVD装置
CMDシリーズ
株式会社アルバック
CMDシリーズはSiH4やTEOSを用いたa-Si膜、シリコン酸化膜、窒化膜成膜用枚葉式CVD装置です。
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