半導体用語集
CVD装置
英語表記：chemical vapor deposition system
薄膜材料を構成する元素からなる１種又は数種の化合物ガス、単体ガスをウェーハ上に供給し、気相又はウェーハ表面での化学反応により所望の薄膜を形成させる装置。ガス分子を励起させるには一般的には、熱エネルギーやプラズマ放電を用いる。最近では光（レーザ、紫外線など）励起や触媒を使用したCVD装置も実用化されつつある。
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