半導体/MEMS/ディスプレイのWEBEXHIBITION（WEB展示会）による製品・サービスのマッチングサービス SEMI-NET（セミネット）

プロセスに応じたモジュール選択により、キュア、アニール、デガス等に合わせた最適なシステムを提供する事ができます。

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MARORA

次世代DRAM、ロジックのゲート絶縁膜形成、フラッシュメモリの絶縁膜形成に最適な枚葉プラズマ窒化・酸化装置

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レーザー干渉計　Qualifire™

アメテック株式会社

最新型レーザー干渉計 QUALIFIREは複数の機能強化を実現しながら装置の軽量化も同時に実現した最新型のZYGOのレーザー干渉計です。

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NPI-8000

株式会社ニューフレアテクノロジー

最先端マスク検査装置

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DI4600

高性能暗視野式ウェーハ欠陥検査装置

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VeritySEM 10

高NA EUVリソグラフィへの道を開く新しい電子ビーム計測装置

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SCSI-SD 外付けドライブBOX

株式会社渡辺商行

SCSI仕様の古いワークステーション（mini-com)で使用しているDAT･FDD･MO・HDDに代わるバックアップディスク装置。既に製造終了の旧式ハードウ…

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ナノ表面粗さ・形状計測器「ナノセブン」

ツクモ工学株式会社

サブナノメートルレベルの表面粗さをより簡単に、より早く測定します

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NOKOTA　ECD

高生産性ウェーハレベルパッケージ用めっき装置

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DI2800

2022年発売。検出時間40枚/時間と高速検査が可能

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DI4200

パターン付きウエハの異物欠陥を高感度・高速でモニタリングすることが可能な欠陥検査装置。

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GALOIS（ガロワ）

GaNウェハの各種欠陥をより高速に検出し、高い解像度で欠陥の観察が可能

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SICA88

コンフォーカルDIC光学系による表面検査とPL検査を1台に搭載

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Surfscan SP7xp

KLA Corporation

先端プロセスにも対応した12.5nmサイズのパーティクルが捕捉可能な欠陥検査装置

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FOUP/FOSB寸法測定装置

株式会社清和光学製作所

FOSB寸法測定装置　”セルフィ―”発売

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アクティブ除振ユニット【空圧制御】A type

倉敷化工株式会社

アクティブ制御とジンバルピストン機構により全周波数帯での優れた除振性能を発揮します。

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ウエハー３D検査シリーズ

株式会社清和光学製作所

多種３D検査装置を提案します。

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ボンディングWaferズレ検査装置

株式会社清和光学製作所

【概要】両面パターン、貼り合せウェハのパターンズレを測定・検査を行います。表-裏面、表-表面、表-界面等非破壊で観察できます。また、…

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CENTURA ULTIMA HDP-CVD

数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置

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F-REX型

株式会社荏原製作所

本装置はウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置です。市場で証明された高い信頼性と優れたプロセス性能を有する本…

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UFP型

株式会社荏原製作所

本装置は、半導体ウェーハにバンプ、再配線、ビア等の微細パターンを形成させるクリーンルーム設置型の電解めっき装置です。

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VERTEXR Revolution/Ⅲ

200mmウェーハ対応バッチサーマルプロセス装置

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VM-2500/3500

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社

国内No.1の販売実績を誇る多機能光干渉式膜厚測定装置

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ウェーハ外観検査装置INSPECTRAシリーズ

半導体製造の前工程から後工程まで『ハイスピード』『ハイスペック』でウェーハの全数自動検査の要求にお応えします。

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9000シリーズ

次世代デバイスプロセスに対応するため、コンダクターエッチング装置　9000シリーズでは、インターフェースを統一し、高精度にモジュール化した…

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M-8000シリーズ

コンダクターエッチング装置　M-8000シリーズは、32nm世代以降のハードマスク、シリコン加工に対応したエッチング装置です。

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E-600/8000シリーズ

不揮発性材料エッチング装置

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E-6000シリーズ

磁気ヘッド用材料エッチング装置

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M-600/6000シリーズ（SEMICON Japan 2020 Virtual出展)

コンダクターエッチング装置　M-600/6000シリーズは、デジタルモバイル機器、白物家電製品、自動車、鉄道などに用いられるパワー半導体のシリコ…

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ENDURA ALPSR PVD (ALPS CO & NI)

高アスペクト比のゲートやコンタクトアプリケーション向けに、シンプルかつ高性能なシリサイドソリューションを提供します。

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AdvancedAce-300

高生産性縦型装置

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TSURUGI-C2 剱

次世代デバイス、特に3次元（立体構造）デバイスに向けた成膜品質向上の市場ニーズにこたえる高品質成膜・高性能半導体製造装置

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「ABICS E120」

EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置

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「ACTIS A150」

アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置

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新型高速レビューSEM「CR7300」（MEMS展、SEMICON Japan 2020 Virtual出展）

新設計の電子光学系を搭載したことで従来よりも高解像な撮像が可能となり、またステージ制御の改良によってSEM画像撮像までの時間を短縮すること…

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欠陥形状評価SEM 「CT1000」（MEMS展,SEMICON Japan 2020 Virtual 出展）

、8インチ（直径200mm）以下のウェーハ上のパターン形状や製造工程中に発生する欠陥の三次元観察を可能とし、観察対象の構成元素推定機能を搭載…

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PMR-3000

日本セミラボ株式会社

非破壊インプラモニター

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RE-3500

loT向け電子デバイスに対応したエリプソ式膜厚測定装置

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VM-1200/1300

製造ラインへの導入も可能な卓上型光干渉式膜厚測定装置

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VM-1020

R&Dに最適な顕微鏡モデル光干渉式膜厚測定装置

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ZI-3500

loT向け電子デバイスに対応したパターン付きウェーハ外観検査装置

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ZI-2000

ハイスピード、ハイコストパフォーマンスを追求。パターン付きウェーハ外観検査装置

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CENTRIS SYM3エッチング装置