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Exceed400HY

日新イオン機器株式会社
最終更新日: 2022年04月01日

パワーデバイス向け水素注入装置

　水素イオンを従来機よりも高エネルギーで注入可能な装置。注目されている垂直共振器面発光レーザ（VCSEL : Vertical Cavity Surface-EmittingLasers）素子の製造プロセス向け装置として開発された。高電圧部を見直し、400kVまで昇圧することを可能としている。また、搬送部においてはSiC分野で培った技術を元にSiウェーハ以外の化合物半導体ウェーハの安定搬送を実現した。さらに、ビーム輸送についても水素注入に最適化することによって、高生産性を実現している。
　従来の中電流装置の安定したプラットフォームに、高エネルギー対応、高生産性、高コストパフォーマンスを備えた装置となっている。

基本情報

・高生産性を実現する大電流H+、 (H2)+ ビーム
・H+ 400keV 注入を実現
・既存の高エネルギー注入機と比べて際立って低いCoO
・VCSEL大量生産の充分なフィールド経験
・パワーデバイスライフタイム制御用のH+裏面注入にも活躍
・高信頼性

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取扱企業

日新イオン機器株式会社

業種：繊維  所在地：京都府 京都市南区久世殿城町 575

半導体、FPD用イオン注入装置メーカー

半導体用イオン注入装置では中電流装置が中心となっている。また、SiCデバイス向けのアルミイオン注入装置を実用化、トップメーカーとなっている。はFPD用装置でも実績を残している。

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