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CW2000

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
最終更新日: 2020年08月11日

フットプリント半減、生産性1.5倍のハイコストパフォーマンス洗浄装置

1. オールインワンコンセプト
薬液供給ユニットおよび冷却ユニットを本体内部に搭載。
当社従来装置との比較で約45%の省スペース化を実現しました。

2. 多様な処理ウェーハに対応
1台の装置で、50mmから200mmまで幅広いサイズに対応します。

3. 新乾燥ユニットをラインアップ
従来のDIS(Drain & IPA Substitution)乾燥に加えて、IPAを使用しない環境に優しい温風乾燥方式(HBD: Hot Blow Drying)を新たにラインアップ。お客さまの使用条件に応じて選択が可能です。

4. フレキシブルな拡張性
お客さまの生産性と導入スペースに応じて、処理槽数を4・6・8槽と拡張可能です。

5. 生産性アップ
従来比1.5倍の毎時150枚の生産を実現。

6. RCA洗浄に対応
半導体洗浄で従来から主流となっている、歩留まり向上に有効なRCA洗浄にも対応します。

基本情報

ウェーハサイズ 50mm-200mm
構造 最大8槽
処理能力 最大150WPH(200mmウェーハ)
乾燥方式 DIS(Drain&IPA Substitution)、温風乾燥方式(HBD)

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取扱企業

株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ

業種:産業用機械  所在地:京都府 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目 天神北町1-1

半導体製造用洗浄装置のトップメーカー

SCREENセミコンダクターソリューションズは、
エッチング、フォトリソグラフィ、画像処理を技術のコアとし、半導体洗浄プロセスにおいて世界のトップメーカとなっている。最先端デバイス向けの高機能・高生産性装置から、200mm以下のさまざまなサイズ・形状の基板に対応できる製品まで、幅広い装置ラインナップをそろえている

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