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フォトマスク

東洋精密工業株式会社
最終更新日: 2021年06月07日

パターン形成のためのフォトリソグラフィ工程で使用されるフォトマスクです。

最小1.0㎛から微細パターンを高精度に描画いたします。材料は石英ガラス、ソーダライムガラスに対応。その他、特殊ガラスでの対応もご相談ください。
最小パターン精度1.0㎛±0.1㎛作製可能。その他の精度、コストに応じて適宜対応可能です。
ご発注量は単品~量産用までご相談ください。
データはDXF、DWG、GDSⅡ、GERBER、その他の形式にも対応可能です。

基本情報

ガラス材料:ソーダライムガラス、石英ガラス、その他
サイズ:2.5インチ角~、その他、特殊サイズ
最小線幅:1.0㎛~
線幅精度:±0.1㎛~
長ピッチ精度:±0.3㎛~
*描画モードを変更することでご要望の仕様とコストに応じた最適なフォトマスクを作製いたします。

お問い合わせ

取扱企業

東洋精密工業株式会社

業種:電子部品・半導体  所在地:奈良県 橿原市新堂町 376-1

フォトリソグラフィで未来を創造する

先端技術分野に欠かすことのできないフォトリソグラフィ。
当社は創業以来、常にフォトリソグラフィと共に歩んできました。
現在では、長年に渡り磨き上げたフォトリソグラフィ技術を軸に、様々な分野で当社の精密加工製品をお使いいただいております。
私たちはこれからもフォトリソグラフィの可能性に挑戦し続け、まだ見ぬ未来を支えるための小さな部品を一つ一つ創りあげて参ります。

半導体製品を生産するために欠かせないフォトマスクを作製いたします。
試作用単品フォトマスクから量産用フォトマスクまで。サイズは2.5インチ角から9インチ角の小型マスク、10インチ以上の大型マスク、その他ご指定のサイズに対応いたします。

①CADデータ作成からフォトマスク作製、②パッド間配線のCAD、③データ作成、④お手持ちのフォトマスクからデータ生成、⑤ウェハ直描、⑥その他、ご要望によりキャリブレーション等の特殊製品の作製をいたします。

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