カテゴリー
- 真空バルブ(ゲートバルブ、ベンドロールバルブ)
- オーリング
- シール/フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ(リニアモータ)
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対/パイロメータ
- サセプタ
- センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
- 各種保護材料(消耗材料)
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリー
- 薬液用ポンプ
- テフロン(半導体グレード)
- SASU(半導体グレード)
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC(国内供給)
- 制御用パソコン(国内)
- モータ/サーボモータ
- RF電源/その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- 防塵衣
- エンドポイントモニタ
- ケーブル/光ファイバ
- 真空バルブ
- オーリング
- 真空シール/フランジ
- 真空開閉シャッタ
- ステージ(リニアモータ)
- リニアモータ駆動システム
- 静電チャック
- 熱電対/パイロメータ
- センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
- 各種保護材料(消耗材料)
- ヒータ(蒸着装置向け)
- サセプタ(半導体にも追加)
- マスフローコントローラ
- ガスバルブ
- 薬液バルブ
- キャピラリ/ディスペンサ
- ノズル(スプレーノズル、スリットノズルなどを含む)
- インクジェットヘッド(ノズル)
- 薬液用ポンプ
- スペーサ供給ユニット
- コロナガン
- テフロン(半導体グレード)
- SUS(半導体グレード)
- 大気ロボット
- 真空ロボット
- リニアモータ搬送システム
- 制御ボード
- 制御用PLC(国内供給)
- 制御用パソコン(国内)
- モータ/サーボモータ
- RF電源/その他電源
- クライオポンプ
- ターボ分子ポンプ
- ドライポンプ
- チラー
- レーザ光源
- 赤外線検出器
- シリコン
- 化合物半導体
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- g・i線レジスト/現像液
- KrFレジスト/現像液
- ArFレジスト/現像液
- ArF液浸レジスト/現像液
- EUVレジスト/現像液
- ターゲット材
- CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他)
- クリーニングガス
- めっき材料
- コーティング材料
- イオンドーピングガス
- 厚膜・その他レジスト
- エッチング液
- エッチングガス
- スラリー
- パッド
- パッドコンディショナ
- 洗浄液
- 超純水・機能水
- サブストレート(パッケージ基板)/インターポーザ
- TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
- 接着剤 接着テープ
- アンダーフィル
- ボンディングワイヤ
- リードフレーム
- はんだボール
- 封止樹脂
- セラミックパッケージ
- フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
- バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
- ダイシング/ダイボンディング用フィルム
- その他フィルム
- マスク基板
- マスクブランクス
- フォトマスク
- ガラス基板(液晶)
- ガラス基板(OLED用)
- Crガス、薬液、Si
- Cr、ITO
- カラーフィルタ用色材(カラーレジスト/顔料)、インクジェット用インク
- フォトレジスト、現像液
- 配向膜材料(SiO2):CVDガス材料、ポリイミド(樹脂)
- 液晶材料
- スペーサ材料(シリコン球)
- シール(封止)材(接着剤)/メインシール材/仮接着剤
- 液晶注入口封止材(紫外線硬化樹脂材料)
- 偏光フィルム
- 基板(仮配置基板)
- ポリイミド樹脂
- 正孔注入層材(有機膜)
- 正孔輸送層材(有機膜)
- 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
- 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
- 高分子有機EL材料
- 有機EL材料(蒸着用)
- 蒸着材料
フォトマスク
パターン形成のためのフォトリソグラフィ工程で使用されるフォトマスクです。
最小1.0㎛から微細パターンを高精度に描画いたします。材料は石英ガラス、ソーダライムガラスに対応。その他、特殊ガラスでの対応もご相談ください。
最小パターン精度1.0㎛±0.1㎛作製可能。その他の精度、コストに応じて適宜対応可能です。
ご発注量は単品~量産用までご相談ください。
データはDXF、DWG、GDSⅡ、GERBER、その他の形式にも対応可能です。
基本情報
ガラス材料:ソーダライムガラス、石英ガラス、その他
サイズ:2.5インチ角~、その他、特殊サイズ
最小線幅:1.0㎛~
線幅精度:±0.1㎛~
長ピッチ精度:±0.3㎛~
*描画モードを変更することでご要望の仕様とコストに応じた最適なフォトマスクを作製いたします。
取扱企業
東洋精密工業株式会社
業種:電子部品・半導体 所在地:奈良県 橿原市新堂町 376-1
フォトリソグラフィで未来を創造する
先端技術分野に欠かすことのできないフォトリソグラフィ。
当社は創業以来、常にフォトリソグラフィと共に歩んできました。
現在では、長年に渡り磨き上げたフォトリソグラフィ技術を軸に、様々な分野で当社の精密加工製品をお使いいただいております。
私たちはこれからもフォトリソグラフィの可能性に挑戦し続け、まだ見ぬ未来を支えるための小さな部品を一つ一つ創りあげて参ります。
半導体製品を生産するために欠かせないフォトマスクを作製いたします。
試作用単品フォトマスクから量産用フォトマスクまで。サイズは2.5インチ角から9インチ角の小型マスク、10インチ以上の大型マスク、その他ご指定のサイズに対応いたします。
①CADデータ作成からフォトマスク作製、②パッド間配線のCAD、③データ作成、④お手持ちのフォトマスクからデータ生成、⑤ウェハ直描、⑥その他、ご要望によりキャリブレーション等の特殊製品の作製をいたします。
フォトマスク へのお問い合わせ
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※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。
フォトマスク