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300~600 ℃の低温処理用ミニマルレーザ加熱装置の開発(Ⅲ)

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2024年09月24日

ミニマルファブ推進機構、佐藤 和重

ミニマルファブ

基本情報

 ミニマルファブの加熱装置の一つは、ウェハにレーザ光を面で照射して加熱する「レーザ加熱」である。従来の抵抗加熱とは異なり、ウェハ全体ではなく特定の領域を高速で昇降温できるが、まだ課題も存在する。ウェハ面内の温度分布を均一にすることや、非接触でウェハ温度を精度よく計測し制御することが求められている。これまで高温工程に適用し、ウェハ面内の温度分布を1.3%前後に均一化できた結果を報告しているが、さらに低温工程への適用を目指し装置開発を進めており、ウェハ裏面からレーザ光を照射し温度を制御する仕組みを構築している一方、ウェハ表面からレーザ光を照射する初号機では、SOIウェハに形成したMOSデバイスのシンタリング時に問題が発生していることを報告している。今回の実験でその原因を探り、有用な知見を得た。

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グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

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グローバルネット株式会社(GNC)は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2020年には創業30年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

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