カテゴリー

高熱伝導絶縁体AlN 膜を用いた高放熱性3D Chiplet の研究

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2025年08月19日

東大 d.lab、高木 剛

熱マネージメント

基本情報

 熱問題解決のためにAlNを用いた「Cool 3D Chiplet」が提案され、HBMのTSV絶縁膜として適用することで熱伝導率を改善し、積層数の増加を実現した。これによりAIチップの電力効率が向上し、データセンターの消費電力を4.6%削減可能と試算されている。さらにAlNを絶縁膜やボンディング層に拡大適用することで、億トン級のCO2削減が期待される。

お問い合わせ

取扱企業

グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

必要な情報をタイムリーに届けたい

グローバルネット株式会社(GNC)は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2025年には創業35年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

高熱伝導絶縁体AlN 膜を用いた高放熱性3D Chiplet の研究 へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。


ご依頼目的 必須

ご要望 必須

お問い合わせ ご意見等


※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。

高熱伝導絶縁体AlN 膜を用いた高放熱性3D Chiplet の研究