カテゴリー

高周波パワーアンプ向け3 次元インダクタ素子に関する層間膜プロセスの開発

グローバルネット株式会社
最終更新日: 2025年08月19日

住友電気工業株式会社、新江 定憲

GaN HEMT
3次元インダクタ素子

基本情報

 移動通信や衛星通信で使用されるSiC基板上GaN HEMT高周波パワーアンプは、MMIC構造の低損失・小型化が求められています。本研究は、SiO2とポリイミド層間膜を用いた3次元インダクタ素子を試作し、特性を評価しました。結果、ポリイミドは高周波で高Q値を示し、SiO2の層間絶縁膜では歩留の高さが確認されました。この技術はインダクタの低損失化とコスト削減に寄与し、高周波アプリケーションにおける重要な進展を示唆しています。

お問い合わせ

取扱企業

グローバルネット株式会社

業種:産業用電気機器  所在地:東京都 中央区湊 1-2-10 堀川ビル6F

必要な情報をタイムリーに届けたい

グローバルネット株式会社(GNC)は出版やセミナーを通して、半導体やフラットパネルディスプレイの情報をタイムリーに提供することを目的に1990年に設立しました。そして2025年には創業35年を迎えます。
1994年にCMPプラナリゼーション委員会の事務局として活動する機会を経て、会員の皆様にCMP向け層間絶縁膜用テストウエハの提供を始めたことがきっかけとなり、テストウエハの試作・加工ファンドリビジネスに参入、事業化を致しました。

高周波パワーアンプ向け3 次元インダクタ素子に関する層間膜プロセスの開発 へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。


ご依頼目的 必須

ご要望 必須

お問い合わせ ご意見等


※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。

高周波パワーアンプ向け3 次元インダクタ素子に関する層間膜プロセスの開発