カテゴリー
- 真空バルブ(ゲートバルブ、ベンドロールバルブ)
 - オーリング
 - シール/フランジ
 - 真空開閉シャッタ
 - ステージ(リニアモータ)
 - リニアモータ駆動システム
 - 静電チャック
 - 熱電対/パイロメータ
 - サセプタ
 - センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
 - 各種保護材料(消耗材料)
 - マスフローコントローラ
 - ガスバルブ
 - 薬液バルブ
 - キャピラリー
 - 薬液用ポンプ
 - テフロン(半導体グレード)
 - SASU(半導体グレード)
 - 大気ロボット
 - 真空ロボット
 - リニアモータ搬送システム
 - 制御ボード
 - 制御用PLC(国内供給)
 - 制御用パソコン(国内)
 - モータ/サーボモータ
 - RF電源/その他電源
 - クライオポンプ
 - ターボ分子ポンプ
 - ドライポンプ
 - チラー
 - 防塵衣
 - エンドポイントモニタ
 - ケーブル/光ファイバ
 
- 真空バルブ
 - オーリング
 - 真空シール/フランジ
 - 真空開閉シャッタ
 - ステージ(リニアモータ)
 - リニアモータ駆動システム
 - 静電チャック
 - 熱電対/パイロメータ
 - センサ(温度、湿度、圧力、流量など)
 - 各種保護材料(消耗材料)
 - ヒータ(蒸着装置向け)
 - サセプタ(半導体にも追加)
 - マスフローコントローラ
 - ガスバルブ
 - 薬液バルブ
 - キャピラリ/ディスペンサ
 - ノズル(スプレーノズル、スリットノズルなどを含む)
 - インクジェットヘッド(ノズル)
 - 薬液用ポンプ
 - スペーサ供給ユニット
 - コロナガン
 - テフロン(半導体グレード)
 - SUS(半導体グレード)
 - 大気ロボット
 - 真空ロボット
 - リニアモータ搬送システム
 - 制御ボード
 - 制御用PLC(国内供給)
 - 制御用パソコン(国内)
 - モータ/サーボモータ
 - RF電源/その他電源
 - クライオポンプ
 - ターボ分子ポンプ
 - ドライポンプ
 - チラー
 - レーザ光源
 - 赤外線検出器
 
- シリコン
 - 化合物半導体
 - マスク基板
 - マスクブランクス
 - フォトマスク
 - g・i線レジスト/現像液
 - KrFレジスト/現像液
 - ArFレジスト/現像液
 - ArF液浸レジスト/現像液
 - EUVレジスト/現像液
 - ターゲット材
 - CVD・ALD用成膜材料(High-k材料/low-k材料/その他)
 - クリーニングガス
 - めっき材料
 - コーティング材料
 - イオンドーピングガス
 - 厚膜・その他レジスト
 - エッチング液
 - エッチングガス
 - スラリー
 - パッド
 - パッドコンディショナ
 - 洗浄液
 - 超純水・機能水
 - サブストレート(パッケージ基板)/インターポーザ
 - TAB・COFテープ 接着剤 接着テープ
 - 接着剤 接着テープ
 - アンダーフィル
 - ボンディングワイヤ
 - リードフレーム
 - はんだボール
 - 封止樹脂
 - セラミックパッケージ
 - フリップチップ用エポキシ樹脂封止材
 - バックグラインディングプロセス用テープ/ウエハレベルCSP用裏面保護フィルム
 - ダイシング/ダイボンディング用フィルム
 - その他フィルム
 
- マスク基板
 - マスクブランクス
 - フォトマスク
 - ガラス基板(液晶)
 - ガラス基板(OLED用)
 - Crガス、薬液、Si
 - Cr、ITO
 - カラーフィルタ用色材(カラーレジスト/顔料)、インクジェット用インク
 - フォトレジスト、現像液
 - 配向膜材料(SiO2):CVDガス材料、ポリイミド(樹脂)
 - 液晶材料
 - スペーサ材料(シリコン球)
 - シール(封止)材(接着剤)/メインシール材/仮接着剤
 - 液晶注入口封止材(紫外線硬化樹脂材料)
 - 偏光フィルム
 - 基板(仮配置基板)
 - ポリイミド樹脂
 - 正孔注入層材(有機膜)
 - 正孔輸送層材(有機膜)
 - 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
 - 電子注入層材料(有機膜、金属化合物薄膜
 - 高分子有機EL材料
 - 有機EL材料(蒸着用)
 - 蒸着材料
 
ウェハ直描加工
フォトマスクを使用せずにウェハ上にダイレクト露光いたします。
露光回数が数回のみで終了する試作品では、フォトマスクを作製せず、ダイレクトにウエハへ直接露光する事でコストが削減できる可能性が御座います。
当社のレーザー描画機では、高出力のレーザーを搭載していますので、厚膜レジストにも対応可能です。
大学や公共機関等の開発者の方々から多く利用して頂いております。
基本情報
材質:シリコンウエハ、ガラスウエハ 
サイズ:12インチまで対応可能
レジスト:ポジ型のみ対応【厚みや種類はご相談ください】
用途:MEMS品のパターン形成、ガラス貫通電極(TGV)やSi貫通電極(TSV)のパターン形成
取扱企業
                                                      
                                                  
東洋精密工業株式会社
業種:電子部品・半導体 所在地:奈良県 橿原市新堂町 376-1
フォトリソグラフィで未来を創造する
先端技術分野に欠かすことのできないフォトリソグラフィ。
当社は創業以来、常にフォトリソグラフィと共に歩んできました。
現在では、長年に渡り磨き上げたフォトリソグラフィ技術を軸に、様々な分野で当社の精密加工製品をお使いいただいております。
私たちはこれからもフォトリソグラフィの可能性に挑戦し続け、まだ見ぬ未来を支えるための小さな部品を一つ一つ創りあげて参ります。
半導体製品を生産するために欠かせないフォトマスクを作製いたします。
試作用単品フォトマスクから量産用フォトマスクまで。サイズは2.5インチ角から9インチ角の小型マスク、10インチ以上の大型マスク、その他ご指定のサイズに対応いたします。
①CADデータ作成からフォトマスク作製、②パッド間配線のCAD、③データ作成、④お手持ちのフォトマスクからデータ生成、⑤ウェハ直描、⑥その他、ご要望によりキャリブレーション等の特殊製品の作製をいたします。
ウェハ直描加工 へのお問い合わせ
お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。
※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。
ウェハ直描加工


                        
