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ウェハ直描加工

東洋精密工業株式会社
最終更新日: 2021年04月20日

フォトマスクを使用せずにウェハ上にダイレクト露光いたします。

露光回数が数回のみで終了する試作品では、フォトマスクを作製せず、ダイレクトにウエハへ直接露光する事でコストが削減できる可能性が御座います。
当社のレーザー描画機では、高出力のレーザーを搭載していますので、厚膜レジストにも対応可能です。
大学や公共機関等の開発者の方々から多く利用して頂いております。

基本情報

材質:シリコンウエハ、ガラスウエハ 
サイズ:12インチまで対応可能
レジスト:ポジ型のみ対応【厚みや種類はご相談ください】
用途:MEMS品のパターン形成、ガラス貫通電極(TGV)やSi貫通電極(TSV)のパターン形成

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取扱企業

東洋精密工業株式会社

業種:電子部品・半導体  所在地:奈良県 橿原市新堂町 376-1

フォトリソグラフィで未来を創造する

先端技術分野に欠かすことのできないフォトリソグラフィ。
当社は創業以来、常にフォトリソグラフィと共に歩んできました。
現在では、長年に渡り磨き上げたフォトリソグラフィ技術を軸に、様々な分野で当社の精密加工製品をお使いいただいております。
私たちはこれからもフォトリソグラフィの可能性に挑戦し続け、まだ見ぬ未来を支えるための小さな部品を一つ一つ創りあげて参ります。

半導体製品を生産するために欠かせないフォトマスクを作製いたします。
試作用単品フォトマスクから量産用フォトマスクまで。サイズは2.5インチ角から9インチ角の小型マスク、10インチ以上の大型マスク、その他ご指定のサイズに対応いたします。

①CADデータ作成からフォトマスク作製、②パッド間配線のCAD、③データ作成、④お手持ちのフォトマスクからデータ生成、⑤ウェハ直描、⑥その他、ご要望によりキャリブレーション等の特殊製品の作製をいたします。

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