カテゴリー

Harrier-L

Eugene Technology
最終更新日: 2021年04月28日

バッチ式高生産性LPCVD/プラズマALDプロセス対応装置

製品の特長
・大型バッチ式炉
・最先端ヒーター技術
・真空制御と高速ガス流
・ウェーハ高速移載システム
・1バッチ150枚以上の一括処理
・高いウェーハ内/ウェーハ間均一性
・7+1ゾーン制御に高い温度制御性
・In-Situクリーニングによる低パーティクルの実現
・ローディング効果の抑制

基本情報

アプリケーション
LSI分野 スペース用ALD窒化膜形成(スペース用)、絶縁膜用ALD窒化膜
MEMS分野(いずれもALD窒化膜形成) 絶縁膜、バッファ、ストッパ、スペーサー、ライナー

お問い合わせ

取扱企業

Eugene Technology

業種:産業用機械 42 Chugero,Yangji Myeon,Choein Gu,yongin City,Gyeonggi Do,Kore 

韓国の大手成膜装置メーカ

韓国の成膜装置メーカ。LPCVD、プラズマCVD装置、ALD装置などの製造、販売を行っている。韓国の半導体メーカの国産装置積極導入の動きを受け、業績を伸ばしている。半導体製造装置関連売上高は2021年には前年比16%増の2492億ウォンなった。

Harrier-L へのお問い合わせ

お問い合わせいただくにはログインいただき、プロフィール情報を入力していただく必要があります。


ご依頼目的 必須

ご要望 必須

お問い合わせ ご意見等


※お問い合わせの際、以下の出展者へご連絡先(所属名、部署名、業種、名前、電話番号、郵便番号、住所、メールアドレス)が通知されます。

Harrier-L