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FIBによるパターン描画

FIB装置でSi基板上にパターン描画を行えます

FIB(Focused Ion Beam:集束イオンビーム)装置ではマスクレスで任意形状のパターン描画を行うことが可能です。
・エッチングによるパターン描画では、1ドットあたり0.1μm程度の大きさで描画が可能です。(加工を行う材質、加工条件により最小サイズは変わります)
・ マスクレスでイオン注入を行うことが可能です。
・ デポジションによるパターン描画も可能です。

この事例では
「FIB装置によるSi基板上へのパターン描画」
を紹介します。

ぜひPDF資料をご一読ください。

基本情報

また、弊社はFIBによるICおよびLSIの回路修正を目的とした配線修正も強みとしております。
具体的には以下のとおり
・配線の切断
・配線の接続
・特性評価用のテストパッドの作製
等を短納期で行い、お客様のICおよびLSI開発のお手伝いをさせていただいています。
お気軽にご相談いただければ幸いです。

セイコーフューチャークリエーション 公式HP
https://www.seiko-sfc.co.jp/

価格帯 加工対象によって変わりますのでご相談ください
納期 加工対象によって変わりますのでご相談ください
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FIBによるパターン描画

取扱企業

セイコーフューチャークリエーション株式会社株式会社

業種:試験・分析・測定  所在地:千葉県 松戸市高塚新田 563

セイコーフューチャークリエーション株式会社は受託分析、研究開発、生産技術、FAシステムを中核とした事業を行っています。お客様の課題解決に向けた各種サービスを提供します。

受託分析サービスに関しては時計やICを主とした豊富な分析経験から、特に微小な部品が得意分野です。
集束イオンビーム装置(FIB)を使った微細加工、走査型プローブ顕微鏡(AFM)他による微小部形態観察、示差走査熱量計(DSC)による材料性質の分析などナノレベルの微細加工技術と分析・解析技術でお客様の課題解決に取り組みます。

※セイコーフューチャークリエーション株式会社は2022年7月1日にセイコーアイ・テクノリサーチ株式会社から社名を変更いたしました。

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