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キヤノンアネルバ株式会社
最終更新日: 2023年12月07日

原子拡散(ADB)接合装置

300mmウェーハ対応装置。接合に用いる薄膜の種類と膜厚を最適化することで、ウェ―ハの材質によらず、常温、無加圧で原子レベルでの接合が可能となる。

基本情報

1)常温で接合
 薄膜の表面における原子拡散で接合するため、熱を加える必要がない。
2)無加圧で接合
 接合面に形成した薄膜の表面エネルギーを利用するため、加圧する必要がない。
3)強固な接合
 原子レベルで結合しているため、接合強度が高く、信頼性、耐久性に優れている。
4)異種材料の接合
 常温プロセスのため、熱に弱いデバイスの接合や熱膨張率の異なる異種材料の接合を可能にする。

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取扱企業

キヤノンアネルバ株式会社

業種:産業用機械  所在地:神奈川県 川崎市麻生区栗木 2-5-1

真空技術で未来を拓く。超高真空技術のキヤノンアネルバ株式会社

キヤノンアネルバは超高真空技術を用いた高付加価値製品を提供することで、社会の発展に貢献してまいります。

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